टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य
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टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य

टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य विभिन्न रूपों, शुद्धता, आकार और कीमतों में उपलब्ध है।
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उत्पाद का परिचय

टंगस्टन लक्ष्यविवरण

हमारी कंपनी विभिन्न शुद्ध टंगस्टन लक्ष्यों के उत्पादन में विशेषज्ञता रखती है जिसमें टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य और प्लानर लक्ष्य और रोटरी लक्ष्य के रूप में टंगस्टन एनोड लक्ष्य शामिल हैं।

टंगस्टन लक्ष्य का उपयोग मैग्नेट्रोन स्पटरिंग कोटिंग में किया जाता है, जो एक नई प्रकार की भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) विधि है। और हमारे द्वारा आपूर्ति किए जाने वाले रोटरी एक्स-रे टंगस्टन लक्ष्य और स्थिर एनोड 2,{2}} डिग्री से अधिक तापमान में अत्यधिक थर्मल तनाव का सामना कर सकते हैं। हमारे सभी उत्पाद बेहतर गुणवत्ता और टिकाऊ जीवन का आनंद लेते हैं

 

हमारे पास भी हैटंगस्टन तार,टंगस्टन रॉड,टंगस्टन पाउडर ,टंगस्टन कार्बाइड पाउडर,टंगस्टन शीट,टंगस्टन प्लेट,टंगस्टन पन्नी,टंगस्टन कॉपर मिश्र धातुटंगस्टन कार्बाइड मिश्र धातु,टंगस्टन भारी मिश्र धातु,टंगस्टन क्रूसिबलऔर अन्य उत्पाद।

 

 

टंगस्टन धातु स्पटरिंग लक्ष्य विशिष्टता

चीन अनुभवी शुद्ध टंगस्टन लक्ष्य आपूर्तिकर्ता--ZhenAn

IFrame

 

उत्पाद विवरण

स्थूल संपत्ति

तकनीकी संकेतक

प्रोडक्ट का नाम

डब्ल्यू लक्ष्य

microhardness

/

आकार

स्वनिर्धारित

ब्रेकिंग गुणांक

/

घनत्व

19.35 ग्राम/सेमी³

ताप विस्तार प्रसार गुणांक

/

गलनांक

3410 डिग्री

सतह खुरदरापन

रा3.2

क्वथनांक

5660 डिग्री

पवित्रता

99.99%

ऊष्मीय चालकता

/

सहनशीलता

±0.1मिमी

अन्य विवरण

निर्माण प्रक्रिया

वैक्यूम गर्म दबाव

न्यूनतम आदेश मात्रा

1 टुकड़ा

पैकेजिंग विधि

वैक्यूम पैकिंग

आवेदन क्षेत्र

वैज्ञानिक प्रयोग

शिपिंग का प्रकार

वायु/समुद्र

बाइंडिंग

उपलब्ध

 

 

ZhenAn Group Tungsten Sputtering Target suppliers
जेनएन ग्रुप टंगस्टन रोटेटेबल स्पटरिंग लक्ष्य आपूर्तिकर्ता
ZhenAn International W Sputtering Target suppliers
जेनएन इंटरनेशनल मेटल टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्यआपूर्तिकर्ताओं

आवेदन पत्र:

 

टंगस्टन लक्ष्य, अर्थात् टंगस्टन स्पटरिंग लक्ष्य का उपयोग सौर, कांच, एलसीडी, एलईडी और विद्युत उद्योगों के लिए स्पटर लक्ष्य के रूप में किया जाता है।

 

निश्चित एनोड लक्ष्य

 

हमारी कंपनी में निश्चित एनोड लक्ष्य का आयाम: व्यास: φ20-φ30मिमी; मोटाई: 2 मिमी से अधिक या उसके बराबर; घनत्व: 18.6 ग्राम/सेमी से अधिक या उसके बराबर3.

 

इस प्रकार का टंगस्टन टारगेट एफडब्ल्यू -1 से बना होता है, जो मुख्य रूप से एक्स-रे ट्यूब फिक्स्ड एनोड टारगेट के उत्पादन के लिए उपयोग किया जाता है। हमारी कंपनी उपयोगकर्ता के ड्राइंग के अनुसार अन्य निश्चित एनोड टारगेट का उत्पादन कर सकती है।

 

घूर्णन-एनोड लक्ष्य

 

हमारा टंगस्टन लक्ष्य उस सामग्री से बना है जिसका सामग्री ग्रेड एफडब्ल्यू -1, एफएमओ -1 है। उत्पाद की मुख्य संपत्ति है: टंगस्टन घनत्व 18.6 ग्राम/सेमी से अधिक या उसके बराबर3, मोलिब्डेनम 9.8 ग्राम/सेमी3 से अधिक या उसके बराबर, असंतुलित 2 सेमी से कम है।

 

1. मो-बेस टंगस्टन लक्ष्य

आयाम φ52 है। 5-φ100, उपयोगकर्ता के ड्राइंग के अनुसार उत्पादन कर सकता है।

 

2. रेनियम-टंगस्टन लक्ष्य

रेनियम टंगस्टन में अच्छी तरह से अनुपातित है, इसलिए इस मॉडल में अधिक अच्छी मशीनिंग संपत्ति और उच्च तापमान संपत्ति है। उपयोगकर्ता के चित्र के अनुसार उत्पाद का आयाम और रेनियम शुद्धता।

Tungsten Sputtering Target Customer visit photos
निश्चित एनोड लक्ष्य ग्राहक यात्रा तस्वीरें

 

सामान्य प्रश्न

 

 

प्रश्न: आपको अन्य आपूर्तिकर्ताओं के बजाय हमसे क्यों खरीदना चाहिए?

उत्तर: ग्राहकों को तीव्र प्रतिक्रिया, लघु उत्पादन चक्र और उत्पादन में समृद्ध अनुभव।

 

प्रश्न: क्या आप निर्माता या व्यापारी हैं?

ए: दोनों, हमारा कारखाना 30 से अधिक वर्षों से टंगस्टन प्लेट के उत्पादन में विशिष्ट है। हम सर्वोत्तम मूल्य, सर्वोत्तम पूर्व-बिक्री और बिक्री-पश्चात सेवा प्रदान करने का वादा करते हैं।

 

प्रश्न: आप अपनी गुणवत्ता को कैसे नियंत्रित करते हैं?

उत्तर: प्रत्येक उत्पादन प्रक्रिया के लिए, जेनएन के पास रासायनिक संरचना और भौतिक गुणों के लिए एक पूर्ण क्यूसी प्रणाली है। और हम सामान का परीक्षण करेंगे, और गुणवत्ता प्रमाणपत्र सामान के साथ भेजा जाएगा। यदि आपकी विशेष आवश्यकताएं हैं, तो हम उन्हें समायोजित करने की पूरी कोशिश करेंगे।

 

प्रश्न: टंगस्टन स्पटरिंग टारगेट की आपकी डिलीवरी का समय क्या है?

उत्तर: मात्रा के आधार पर, हमारी डिलीवरी का समय अलग-अलग है। लेकिन हम गारंटीशुदा गुणवत्ता के साथ यथाशीघ्र जहाज भेजने का वादा करते हैं।

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